钨钛靶材是一种高性能合金靶材，由钨（W）与钛（Ti）组成，兼具钨的高熔点、耐高温及耐磨特性，以及钛的轻质、耐腐蚀与良好附着力。其可通过溅射、蒸镀等物理气相沉积（PVD）技术形成均匀致密的薄膜。钨钛靶材广泛应用于半导体、微电子、光学器件及装饰性镀膜等多个高科技领域，是制造高性能薄膜材料的重要选择。

钨钛靶材核心优势

• 高致密性与均匀性

  薄膜沉积均匀，表面平整，附着力强，可有效避免膜层开裂或脱落。

• 耐高温与耐腐蚀

  钨元素提供出色的高温稳定性和耐磨性，钛元素赋予抗氧化和抗腐蚀能力，适应各种高温或苛刻工艺环境。

• 优异机械性能

  薄膜硬度高，耐磨、耐划伤，提升最终产品的耐用性和使用寿命。

钨钛靶材的主要应用领域

1.  半导体制造

   用于集成电路互连层、接触孔金属化及保护膜沉积，提供高导电性、稳定性和耐高温性能，确保芯片内部元件长期可靠运行。

2. 微电子器件

   在MEMS器件、电极、传感器等微型电子元件中使用，可改善导电性、耐磨性和长期稳定性，提高器件性能和可靠性。

3. 光学器件制造

   应用于光学镜片、滤光片、激光器件等，通过镀膜调控透射率和反射率，同时增强光学元件耐磨性和耐腐蚀性，用于精密光学仪器和激光系统。

4. 装饰及功能性镀膜

   在电子外壳、金属制品和高端家电表面形成高光泽、耐磨且耐腐蚀的薄膜，兼具美观和功能性保护，延长产品使用寿命。