产品中心
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名称：氧化铝靶材(Al2O3）中文名：氧化铝靶材(Al2O3）成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：半导体制造、光学器件制造、新能源领域、显示面板查看详情
名称：硫化镉靶材(CdS)中文名：硫化镉靶材(CdS)成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：光伏行业、光电探测器、光学器件制造、传感器查看详情
名称：氧化锌靶材(ZnO）中文名：氧化锌靶材(ZnO）成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：显示面板、查看详情
名称：氧化钛靶材(TiOx）中文名：氧化钛靶材(TiOx）成型工艺：喷涂、烧结纯度：99.9%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：光学器件制造、光伏行业、半导体制造、低辐射（Low-E）节能玻璃查看详情
