石墨靶材是由高纯度石墨加工制成的溅射靶材，具有高热稳定性、耐高温、耐腐蚀、低热膨胀系数等特点。石墨靶材广泛应用于半导体、光学、太阳能、电池材料、耐高温涂层等领域，特别适用于需要高温加工和碳薄膜沉积的场景。

石墨靶材的优异特性

• 高热稳定性

  在高功率、高温溅射工艺中仍能保持稳定性能，保证薄膜沉积均匀。

• 低热膨胀系数

  在温度变化下尺寸稳定，减少沉积应力，提升膜层致密性和附着力。

• 优良导电性

  石墨靶材导电性能良好，适合制备电子器件、功能薄膜及导电层。

石墨靶材的广泛应用

1. 半导体制造

   石墨靶材用于制备导电薄膜、碳阻挡层和互连层，保证器件的高性能和稳定性。

2. 光学器件制造

   用于碳薄膜、抗反射膜和红外吸收膜的制备，广泛应用于光学元件、激光器件及红外窗口。

3. 光伏行业

   用于光伏电池背电极、燃料电池碳层以及超级电容器导电层，提升能源转换效率和器件寿命。

4. 航天航空

   石墨靶材沉积的膜层可作为高温保护涂层，提高耐热性和耐磨性。