硅铝靶材是一种高纯度合金靶，由硅和铝按特定比例制备而成，经过熔炼、铸造及精密加工工艺，形成高致密、均匀的功能靶材。凭借硅的半导体性能和铝的优良导热性，硅铝靶材可在溅射或蒸镀工艺中沉积出附着力强、厚度均匀、膜层稳定的薄膜，广泛应用于半导体芯片互连、电极层、光学镀膜、功能涂层以及新能源器件等领域。

其高纯度（≥99.99%）、化学稳定性和工艺兼容性，使其成为光伏太阳能、显示面板、电子器件及建筑节能玻璃等行业的理想材料选择。硅铝靶材不仅保证了产品性能和可靠性，也助力企业实现高效精密的膜层制备。

硅铝靶材核心优势

• 兼具单质硅和单质铝的优势

• 性能可调性，通过调控 Si/Al 比例，可精准匹配不同领域的需求




• 增加与基板的结合率
  

  i-Al 靶材的光学性能（如反射率、吸收率）可通过 Si 含量调控，同时兼具高硬度，因此在光学器件和装饰涂层中应用广泛。

硅铝靶材的主要应用领域

1.  半导体制造
   硅铝靶材广泛用于晶圆的金属互连线、电极层和阻挡层沉积。在芯片制造中，通过物理气相沉积（PVD）技术，将硅铝合金原子均匀沉积在晶圆表面，形成高导电性、稳定性强的薄膜，确保各电子元件之间实现可靠、高速的电连接，满足先进制程的需求。

2. 光学器件制造

   在光学元件制造中，硅铝靶材可用于镜片、滤光片、显示器件、光学传感器等功能膜的沉积。通过精确控制膜厚和工艺参数，可以调控透射率、反射率和吸收率，提升光学元件的亮度均匀性、清晰度和使用寿命，广泛应用于望远镜、显微镜、光通信设备等高端光学领域。

3. 功能涂层与装饰膜

   硅铝靶材可在建筑玻璃、汽车玻璃、电子玻璃、家电外壳及装饰面板表面沉积多功能薄膜，如防反射膜、导电膜、耐磨膜或美观装饰膜。这些涂层不仅提升了玻璃和金属表面的光学和电学性能，还增强了机械强度和耐腐蚀性，满足节能、环保及耐用性要求。

4. 新能源器件

   在太阳能电池及光伏组件中，硅铝靶材可作为导电层或阻挡层材料，通过溅射沉积形成高均匀性薄膜，提高电池的光电转换效率和长期稳定性。同时，其化学稳定性和高纯度特性保证了电池在高温、高湿及长期使用环境下的性能可靠。