铜镍靶材是由高纯度铜和镍在真空或保护气氛下经过精密熔炼、轧制、机加工等工序制备而成的合金靶材。通过严格控制合金比例、杂质含量和显微组织，既保留了铜优异的导电导热性能，又融入了镍的高强度和耐腐蚀特性，成为多行业常用的功能性靶材。

铜镍靶材核心优势

• 优异导电导热性能

  高纯度铜赋予靶材低电阻率和高导热率，沉积出的薄膜在高频、高功率条件下依然具有稳定的导电性和散热能力，非常适合功率器件及大面积基板。

• 耐腐蚀与耐磨性强

  镍元素提高了靶材和膜层的抗腐蚀、抗氧化和耐湿热性能，形成致密钝化层，有效延长膜层及器件的使用寿命。

• 膜层致密、附着力高

  溅射出的薄膜表面光滑、颗粒细小、厚度均匀，附着力好，有助于提升成品良率和稳定性。

• 优良的机械性能

  通常具有较高的硬度和强度，在溅射过程中能够保持靶材的稳定性和耐用性，减少因溅射产生的变形和损坏，保证溅射过程的顺利进行。
  

铜镍靶材的主要应用领域

1.  半导体制造
   铜镍合金靶材常用于芯片制造过程中互连线、接触电极等关键金属层的沉积。通过磁控溅射或PVD工艺在晶圆表面形成致密、导电性优异的薄膜，实现电路之间高效、稳定的电连接，满足先进制程的可靠性和性能需求。

2. 显示器行业

   在液晶（LCD）和OLED等平板显示生产中，铜镍靶材是电极及薄膜晶体管金属层的重要材料。其均匀的沉积特性有助于获得低电阻、高附着力的薄膜，提升显示面板的响应速度、亮度均匀性和整体画质。

3. 光伏行业

   铜镍靶材可作为晶硅或薄膜太阳能电池的电极或阻挡层材料。通过溅射形成的金属层具有良好的导电和耐蚀性能，可显著提高电池的光电转换效率、稳定性和使用寿命。

4. 光学器件制造

   在光学元件制造中，铜镍靶材可用于镜片、滤光片等镀膜，膜层光学特性易于调控。通过精准控制膜厚与工艺参数，可实现特定波段的反射、透射或吸收，满足望远镜、显微镜、光通信等高端光学应用的要求。