铌靶材是由高纯度铌金属(纯度>99.95%)加工而成。铌是一种银灰色的、稀有的、质地较软且具有延展性的过渡金属，高熔点(2468°C)、优异耐腐蚀性(常温下耐强酸/碱腐蚀速率<0.01mm/年)和良好的导电性。

铌靶材料最终纯度可达99.95%以上，晶粒尺寸小，再结晶组织好，三轴一致性好。作为阴极溅射靶材，它所形成的氧化膜质量均匀不会与空气中的其他物质发生反应，具有持久的保护作用。

铌靶材的优异特性

• 高密度，作低电阻晶粒细小

• 薄膜空穴迁移率高，高光学透过率，界面匹配优异

• 非金属杂质(C,N,O)，含量少

铌靶材的广泛应用

1. 半导体制造

   铌靶材在芯片制造中扮演着关键角色--通过磁控溅射工艺，能在硅片上沉积出仅200纳米厚的铌薄膜。这种超薄镀层能有效提升集成电路的导电性和耐腐蚀性，是5G芯片和存储器的核心材料之一。

2. 光学器件制造

   当铌靶材遇上光学镀膜技术，会产生奇妙的化学反应相机镜头镀膜:提升透光率至99.7%AR眼镜镀层:实现光线选择性透过激光反射镜:耐高温达1800°C这些特性使得从智能手机摄像头到天文望远镜，都离不开铌靶材的贡献。

3. 装饰镀膜

   铌靶材在装饰镀领域因其独特的色彩可调性和优异性能而备受青睐。通过阳极氧化或磁控溅射工艺，铌镀层可呈现蓝、紫、金等丰富色彩，同时具备耐腐蚀、高硬度和生物相容性，广泛应用于高端手表、珠宝、电子产品及医疗美容器械的装饰镀层。