钼铌靶材是由高纯度钼（Mo）和铌（Nb）粉末制粉烧结，结合了钼的高熔点、高硬度和耐腐蚀性，以及铌的优异耐蚀性和良好导电性。MoNb靶材可用于制备耐磨、耐高温、耐腐蚀的功能薄膜，以及用于半导体、光学、能源和高端装饰镀膜等领域。通过溅射制备的MoNb膜层具有高致密性、良好的结合力和稳定的物理化学性能。

钼铌靶材核心优势

• 耐高温性能优异

  钼成分提供高熔点和良好热稳定性，使薄膜在高温溅射工艺中依然稳定，适合高功率沉积。

• 耐腐蚀性强

  铌增强了膜层在酸碱和氧化环境下的抵抗力，延长薄膜和器件的使用寿命。

• 良好导电性

  合金薄膜导电性能稳定，适合用于电子器件、功能膜和透明导电膜应用。

• 高硬度与耐磨性

  MoNb膜层硬度高，耐磨损，可用于防护涂层和高端装饰镀膜，提高耐久性。

• 膜层致密性好

  溅射制备的膜层均匀、附着力强，保证薄膜在多种应用条件下的稳定性。
  

钼铌靶材的主要应用领域

1.  半导体制造
   MoNb靶材可用于制备导电层、互连层或屏蔽层，为半导体器件和电子元件提供稳定的导电性能和长期可靠性。

2. 显示面板

   用于 LCD、OLED、Mini/Micro LED 显示面板的透明电极辅助层、栅极电极或互连线。核心优势：良好的柔性，与透明导电层（ITO/IZO）的界面结合力强、溅射成膜均匀性高。

3. 光伏行业

   主要用于薄膜光伏电池（如 CIGS、CdTe 电池）的背电极或导电背板。核心优势：耐高温、耐光伏电解液腐蚀、低接触电阻。
   

4. 航空航天
   MoNb薄膜硬度高、耐高温、抗腐蚀，适合航空航天及高温工业设备表面保护，延长关键部件使用寿命。