产品介绍
钼靶材,高性能材料的行业新宠
在材料科学不断演进的当下,钼靶材以其卓越的性能在众多领域崭露头角,成为推动行业进步的关键力量。从半导体制造到显示面板生产,从太阳能光伏到高端装备制造,钼靶材正凭借独特优势重塑产业格局。
钼靶材的优异特性
超高纯度
钼靶材通常具备≥99.95% 的高纯度,部分甚至可达 5N 级(99.999%)。极低的杂质含量,如铁、镍等杂质<50ppm,氧含量<200ppm,有力保障了溅射薄膜的电学性能稳定,为对精度和性能要求严苛的应用场景,如半导体芯片制造,奠定了坚实基础。
耐高温氧化
拥有 2623℃的超高熔点,在 1000℃空气中氧化增重<0.1mg/cm²(100 小时)。以某光伏企业为例,使用钼靶材制备 TCO 膜,经 85℃/85% RH 环境测试 500 小时无失效,充分彰显其在高温及复杂环境下的卓越稳定性。
精密结构与良好导电性
密度:10.28g/cm³(理论值 99%),晶粒尺寸<50μm,平面度≤0.05mm(Φ100mm 靶材)。高纯度钼的良好导电性(电阻率 5.2μΩ・cm),确保在溅射过程中能高效传输电流,提升溅射效率,同时精密的结构设计适配高精度溅射设备,保障镀膜的精准性与均匀性。
钼靶材的应用
半导体行业:
钼靶材在半导体工业中用于制备金属硅片的底部电极,提供稳定的电流保证硅片质量。
显示面板
钼靶材在液晶显示器(LCD)中用于提升亮度、对比度、色彩和寿命。
光伏行业
钼靶材用于太阳能电池的制造,作为电极材料,提高电池的转换效率。
低辐射玻璃
钼靶材用于STN/TN/TFT-LCD、低辐玻璃等的制造,适用于各种镀膜系统。
技术特性

纯度
99.95%-99.999%

密度
10.28g/cm

电阻率
0℃时为5.17×-10Ω·cm;800℃时为24.6×-10Ω·cm;2400℃时为72×-10Ω·cm
应用场景
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