锆靶材是以高纯度金属锆（Zr）加工制备的溅射靶材，具有低吸氢性、高熔点（1855℃）、优异的耐腐蚀性和良好的导热性，广泛应用于半导体、光学镀膜、功能涂层等领域。由于锆具有优良的物理、化学性能和与氧的亲和性，它在真空溅射环境下能稳定形成高质量薄膜。

锆靶材的优异特性

• 高纯度：通常纯度可达99.5%~99.9%，保证薄膜电学、光学性能稳定

• 高熔点：熔点约1855℃，可在高温工艺条件下保持稳定。

• 优异耐腐蚀性：对酸、碱、盐类及多数化学介质具有强耐腐蚀性，适合恶劣环境。

• 低中子吸收截面：在核工业中具有重要应用，尤其用于核反应堆部件及其镀膜。

• 氧亲和性强：在溅射过程中容易与氧结合，制备高质量氧化锆（ZrO₂）薄膜，应用于光学镀膜、绝缘膜等领域。

钽靶材的广泛应用

1. 半导体制造

   用于制造阻挡层、介电层或电极材料，提升器件性能和稳定性。

2. 光学器件制造

   用于生产高折射率薄膜，如光学滤光片、防反射膜等。

3. 硬质涂层

   常与氮化物结合（ZrN），制备耐磨、防腐蚀膜层，用于工具镀膜和装饰镀膜。

4. 核工业

   由于锆的低中子吸收特性，锆材料及其膜层在核反应堆相关部件中有特殊应用。