碳化硅靶材（SiC Target）是以高纯度碳化硅粉末为原料，耐高温、耐腐蚀，具有优异的化学稳定性和热导率，尤其适合在严苛工况下沉积高性能薄膜。它是半导体、光伏、光学等行业常用的重要功能材料。

碳化硅靶材核心优势

• 高纯度，薄膜更洁净

  采用高纯度 SiC 原料，杂质金属含量 <100 ppm；沉积出的薄膜缺陷点少、颗粒少，电性能和光学性能稳定，适合高端电子器件。

• 超高硬度与耐磨性

  在高功率溅射下不易剥落、不开裂，靶材寿命比普通陶瓷靶延长 30% 以上；减少靶材颗粒污染，提高产线良率。

• 优异的热导率与抗热震性

  能快速散热，允许更高功率密度溅射；不易因冷热冲击导致开裂，适合长时间连续沉积。

• 组织致密均匀，膜层一致性好

  靶材密度高，颗粒分布均匀，沉积速率高、膜厚均匀度好；大尺寸靶材也能保持稳定品质。

碳化硅靶材的主要应用领域

1.  半导体制造

   用于功率器件、射频器件、MEMS 传感器等薄膜沉积；通过磁控溅射等工艺形成致密、高绝缘性薄膜，提高器件耐压、耐温与稳定性。

2. 显示面板

   在 LCD、OLED、Micro-LED、柔性屏中，用作硬质保护膜或缓冲层；提升屏幕耐刮擦性、化学稳定性，同时保证光学透过率与触控灵敏度。

3. 光伏行业

   作为晶体硅或薄膜太阳能电池的抗反射层、保护膜或缓冲层；提高光吸收效率、降低反射损失，并增强电池长期稳定性与耐久性。

4. 光学器件制造

   用于透镜、滤光片、棱镜等光学元件表面镀膜；可调控膜层折射率和透光率，实现防反射、滤波或高反射功能，适用于激光光学、航空航天等领域。

5. 装饰镀膜

   在手机、手表、汽车内饰及精密零件表面形成高硬度、耐磨膜层；提供美观的金属质感，同时延长产品使用寿命。