氮化钛（TiN）靶材是当前全球应用最广泛的金属陶瓷功能靶材之一，兼具金属的导电导热性与陶瓷的高硬度、抗腐蚀特性，通过磁控溅射等工艺可制备性能均衡的功能薄膜。其核心优势既能满足机械制造的耐磨防护需求，也能适配电子半导体的高精度功能要求，还可实现装饰与防护一体化功能，广泛应用于机械、电子、装饰、航空航天、新能源等多个高端制造领域，是跨行业通用的核心功能材料。

氮化钛（TiN）的优异特性

• 致密性突出

  相对密度≥98%，晶粒尺寸 3-10 μm 均匀分布，减少溅射时弧光放电，提升薄膜成分均匀性

• 高沉积速率、膜层无发蒙

  高沉积速率优化，效率最大化落地，膜层无发蒙优化，外观与致密性双保障
  

• 超硬耐磨

  硬度层级丰富，靶材硬度≥1800 HV，耐磨性是普通金属薄膜的 4-8 倍，同时兼具一定韧性，避免薄膜脆裂。

• 低电阻率

  室温电阻率≤150 μΩ・cm，远超传统陶瓷靶材，适配半导体栅极、散热涂层等导电 / 导热场景。

• 色泽可调控

  天然呈现金黄色，通过工艺优化可实现黑色、灰色等多色泽，满足高端装饰需求。

  
  

氮化钛（TiN）的广泛应用

1. 硬质涂层

   色泽均匀（经典金黄色）、无雾感无颗粒，长期使用不褪色划伤；符合 RoHS 环保标准，量产效率提升 30% 以上。

2. 半导体制造

   保障电子器件信号传输稳定、延长使用寿命；适配 7nm 以下先进制程，半导体良率≥98%，消费电子量产效率提升 25%。

3. 光学领域

   保障光学器件成像清晰、透光高效；颗粒缺陷极少，镜头良率显著提升，单日可处理数千片光学元件。