氧化铝靶材是由高纯度的氧化铝（Al₂O₃）制成，作为薄膜沉积中常用的靶材之一。它被广泛应用于真空镀膜、溅射技术等薄膜沉积工艺中。氧化铝靶材的特性包括较高的熔点、优异的化学稳定性和良好的热导性，使其在多种环境下都能稳定工作。

氧化铝靶材(Al2O3)的优异特性

• 高致密

  通过热压设备技术改造，靶材致密度提升至 90–95%，显著增强材料强度与稳定性。

• 高纯度

  选用特制原料粉末，杂质极低，纯度提升至 ≥99.99%。

• 高均匀

  反复校准烧结参数，保证温控均匀，材料一致性高。

氧化铝靶材(Al2O3)的广泛应用

1. 半导体制造

   氧化铝靶材广泛用于半导体制造工艺，尤其是在集成电路和CMOS工艺中，作为绝缘层和高k介质膜，离子注入掩膜，具有优良的电绝缘性和热稳定性。Al₂O₃薄膜还能提升器件的耐压性能和介电强度，因此在晶圆级封装和薄膜电容器中得到广泛应用。

2. 光学器件制造

   由于氧化铝薄膜透明度高、硬度大且具备良好的化学稳定性，用于功能光学薄膜，抗反射涂层（AR 膜）、红外滤光片与增透膜、光学保护膜，保证光学系统在复杂环境下仍能保持高性能。Al₂O₃薄膜还能有效提高光学元件的耐磨性和抗腐蚀能力。

     3.新能源领域

        锂离子电池 表面沉积超薄 Al₂O₃薄膜作为包覆层，晶体硅光伏电池表面沉积 Al₂O₃薄膜作为钝化层，在钙钛矿光伏电池中作为电子传输层或阻隔层，改善器件性能。

     4.显示面板

        氧化铝靶材制备的薄膜硬度高、附着力强，用于透光绝缘与结构层，如显示屏防刮涂层、精密仪器防护膜以及工业模具表面硬化处理。这类涂层不仅提高耐磨性能，还能延长设备使用寿命，降低维护成本。