氧化铌（Nb₂O₅）是一种高性能无机功能材料，常用于真空蒸发镀膜、电子束蒸发等工艺中。该材料具有高折射率、优异的介电性能和良好的化学稳定性，广泛应用于光学薄膜、电子器件及功能膜层的制备，是高端光学和微电子领域不可或缺的关键材料之一。

氧化铌的优异特性

• 高折射率

  氧化铌薄膜折射率高，2.1-2.35（500nm)，适合制备多层光学膜，如干涉膜、反射膜、滤光膜。

• 优良的介电性能

  具备良好的透光性和低吸收特性，适用于可见光到近红外波段的光学元件。

• 介电常数高

  作为高k介质材料，能够有效提高电容性能，满足半导体器件小型化和高性能化需求。

• 化学稳定性强

  在高温、潮湿及化学腐蚀环境下仍能保持稳定性能，延长器件寿命。

氧化铌的广泛应用

1. 半导体制造

   作为高k介质材料，用于电容器、晶体管等核心元件，能够实现更低功耗和更高性能的微电子器件。

2. 光学器件制造

   广泛用于滤光片、增透膜、干涉膜、光学镜头镀膜等高精度光学薄膜设计，可有效提升器件透过率和耐用性。

3. 光伏行业

   在薄膜太阳能电池中作为功能层，提高光电转换效率，同时增强器件的稳定性和使用寿命。