产品中心
Product Center
名称：钨碳靶材(WC）中文名：钨碳靶材(WC）成型工艺：平面靶材：热压、旋转靶材：喷涂纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：硬质涂层、半导体制造、能源领域查看详情
名称：铝钛靶材(AITi）中文名：铝钛靶材(AITi）成型工艺：喷涂、热等静压纯度：99.5%-99.9%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：半导体制造、平板显示器、机械加工与工具制造、航空航天、汽车行业、光学器件、医疗器械查看详情
名称：铝钪靶材(AlSc）中文名：铝钪靶材(AlSc）成型工艺：熔炼纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材应用场景：航空航天领域、电子工业领域、光学与光电子领域、能源领域、医疗领域查看详情
