产品中心
Product Center
名称：硅铝靶材(SiAI）中文名：硅铝靶材(SiAI）成型工艺：喷涂、等静压纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：半导体制造、光学器件制造、功能涂层与装饰膜、新能源器件查看详情
名称：铜镍靶材（CuNi）中文名：铜镍靶材（CuNi）成型工艺：熔炼纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：半导体制造、光学器件制造、光学器件制造、功能性薄膜查看详情
名称：铟锡靶材(InSn）中文名：铟锡靶材(InSn）成型工艺：浇注产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：显示面板、能源领域、柔性电子查看详情
名称：钼铌靶材(MoNb)中文名：钼铌靶材(MoNb)成型工艺：压制、烧结纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：半导体制造、显示面板、光伏行业、航空航天查看详情
