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名称：氧化铟铈靶材(ICO)中文名：氧化铟铈靶材(ICO)成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：显示面板、触摸屏技术、光伏行业、柔性电子、光学器件制造查看详情
名称：二硼化钛靶材(TiB2)中文名：二硼化钛靶材(TiB2)成型工艺：烧结纯度：99.9%-99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：显示面板、触摸屏技术、光伏行业、柔性电子、光学器件制造查看详情
名称：高阻靶(GXO)中文名：高阻靶(GXO)成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：光伏行业、汽车玻璃、半导体制造、光学功能膜查看详情
名称：碳化铬(CrC)中文名：碳化铬(CrC)成型工艺：热压烧结、喷涂纯度：99.9%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：硬质合金刀具涂层、航空发动机零部件涂层、半导体封装与防护涂层、油气输送与化工设备涂层查看详情
